富士胶片商业创新申请中间转印体专利，实现导电路径数110以上
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2026-08-25 18:31:08
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国家知识产权局信息显示，富士胶片商业创新有限公司申请一项名为“中间转印体、转印单元及图像形成装置”的专利，公开号CN122632537A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，一种中间转印体、转印单元及图像形成装置，所述中间转印体具有半导电层，所述半导电层含有：至少一种树脂，选自由聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、芳香族聚醚醚酮树脂、聚苯硫醚树脂及聚醚酰亚胺树脂组成的组；导电性碳粒子；及至少一种硅油，选自由二甲基聚硅氧烷及二甲基聚硅氧烷的有机基团取代体组成的组，根据所述半导电层的厚度方向上的截面的三维结构分析而算出的导电路径数为110以上，从所述半导电层的表面电阻率ρs（logΩ/□）减去所述半导电层的体积电阻率ρv（logΩ·cm）而得的值为1.5以上且2.0以下。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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