拉普拉斯获得实用新型专利授权：“沉积设备”_科技动态

拉普拉斯获得实用新型专利授权：“沉积设备”

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2025-05-30 11:41:26

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“沉积设备”，专利申请号为CN202422064086.6，授权日为2025年5月30日。

专利摘要：本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种沉积设备，解决了沉积设备无法对腔体的内壁进行镀膜的问题。该沉积设备被配置为对腔体的内壁进行镀膜，内壁围合形成腔室，腔体具有连通腔室与外界的至少一个开口。该沉积设备包括至少一个密封件、至少一个靶台和至少一个激光发射组件。密封件用于密封开口，以使腔室形成密闭腔室。靶台用于承载靶材，靶台能够放入腔室。激光发射组件向靶材发出激光，使靶材生成等离子羽辉，等离子羽辉能够沉积于腔体的内壁，以对腔体的内壁进行镀膜。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权82个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。

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