中证报中证网讯（王珞）日前，龙图光罩（688721）在其官方微信公众号宣布，90nm节点的半导体掩模版产品已在珠海“高端半导体芯片掩模版制造基地”正式实现量产，同时65nm产品开始送样验证，标志着公司在高端制程的影响力进一步增强，覆盖的下游领域更加广泛。

产品从130nm到65nm进化

据公司招股书显示，龙图光罩成立于2010年，主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是独立第三方半导体掩模版厂商，其产品广泛应用于信号链及电源管理IC等成熟制程，以及功率器件、MEMS传感器、先进封装等特色工艺制程。

龙图光罩介绍，自公司在科创板挂牌上市以来，不断增加投入进行技术攻关和产品迭代，工艺能力从130nm逐步提升至65nm，并已完成40nm工艺节点的生产设备布局。目前，公司与国内重点的晶圆厂及设计公司均建立了深度的合作关系，技术实力及工艺能力在国内同行中处于第一梯队。

持续加大技术研发投入

龙图光罩介绍，公司的研发团队在半导体掩模版领域耕耘多年，具有深厚的技术积累以及良好的技术转化能力。截至2024年底，公司拥有研发人员43人，占公司总人数的17.41%，本科学历以上共37人，其中硕士研究生8人。同时，公司通过引进人才，积极与高校、科研院所开展产学研合作，提升研发实力。

公开资料显示，公司已获得国家工信部专精特新“小巨人”企业认定、广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定。截至2024年底，公司已累计获得25项发明专利和36项软件著作权以及40余项实用新型专利。

据龙图光罩2025年一季报，公司今年一季度实现营收5436.74万元，研发投入565.42万元，占营收比例为10.4%，比去年同期增加2.14个百分点。

抢抓新兴领域增长机遇

龙图光罩2024年年报指出，近年来，新能源、AI、自动驾驶、物联网、5G通信、VR/AR、元宇宙等新兴领域呈现出强劲的增长态势，促使半导体企业加快技术创新和产品升级步伐，推动了掩模版市场规模的持续扩大，但长期以来国内半导体掩模版市场份额主要由国际巨头所占据。

龙图光罩介绍，当前，中国大陆厂商已达量产的半导体掩模版仍主要停留在350nm-130nm，130nm及以下工艺节点目前参与厂商较少。根据中国电子协会官网数据显示，目前中国半导体掩模版的国产化率为10%左右，90%需要进口，高端掩模版的国产化率仅约3%。

公司表示，将围绕高端半导体芯片掩模版领域持续加大研发投入，目标成为国内一流、国际领先的半导体光罩标杆企业。