上海华力申请优化光源的方法专利，增加工艺窗口_科技动态

上海华力申请优化光源的方法专利，增加工艺窗口

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2025-08-19 06:21:54

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金融界2025年8月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“优化光源的方法”的专利，公开号CN120491401A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本发明公开了一种优化光源的方法，包括：步骤一、采用初始光源进行SMO优化得到输出光源。步骤二、采用输出光源进行仿真得到工艺窗口。当工艺窗口满足要求时，输出光源作为最终输出光源。当工艺窗口偏小时，进行后续步骤三。步骤三、选出位于工艺窗口的边界的图形作为弱点图形，根据弱点图形形成测试图形，将测试图形放置在标记层中。步骤四、根据标记层对输出光源进行优化，以优化后的输出光源替换优化前的输出光源。步骤五、采用输出光源进行仿真得到工艺窗口。当工艺窗口满足要求时，输出光源作为最终输出光源。当工艺窗口偏小时，之后回到步骤四。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2081次，专利信息2402条，此外企业还拥有行政许可346个。

来源：金融界

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