原创 荷兰光刻机新规,震动全球芯片业,中国供应链自给已经按下加速键
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2025-11-08 22:01:27
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荷兰光刻机出口设置新门槛,不只是对中国卡脖子,也让全球芯片链震动。

这背后,其实藏着中国产业突围的新拐点

新规不只是卡脖子,连“备用路”都给堵死了

搁以前说起光刻机管制,大家都只盯着EUV,毕竟那玩意儿是造先进芯片的“刚需”,早被西方攥得死死的。

可这次荷兰玩了把“精准打击”,直接把矛头对准了DUV里的高端型号。

ASML自己也没藏着掖着,说这次受限制的就是TWINSCANNXT系列里的2000i和2050i,后来干脆连1970i、1980i也划进了要审批的范围。

别以为这些设备是淘汰货,它们能稳稳拿捏14纳米及以下的芯片制程,就算是高级逻辑芯片、DRAM存储芯片的批量生产,也能搞定。

这波操作相当于把中国芯片产业的“备用路”给彻底堵死了。要知道,EUV拿不到之后,中国企业早就琢磨着用DUV的多重曝光技术凑办法,ASML的1980i、2000i这些设备,配合着优化的软件算法,居然也能折腾出7纳米芯片,华为的部分机型芯片就是这么造出来的。

可现在荷兰政府连这路子都不让走了,2024年1月的时候,直接把三台DUV的出口许可证给撤了,每台都值几千万欧元,ASML只能眼睁睁看着订单黄了,中国企业的设备更新计划也跟着卡了壳。

更让人头疼的是审批周期,以前几周就能下来,现在拖到半年以上,就算最后拿到许可,生产线都等不起了。

其实ASML比谁都急。中国是它的第二大市场,2024年上半年卖给中国的营收就冲到了48亿欧元,比去年同期涨了129%,快占总营收的一半了。

公司高层不止一次抱怨,限制出口就是浪费制造能力,毕竟中国的订单增长潜力,比其他地区都大得多。

可胳膊拧不过大腿,荷兰政府跟着美国的节奏走,ASML也没办法,只能悄悄在美国建工厂,甚至放出要搬离本土的风声,这背后全是对政策的不满。

但对中国这边来说,这信号再明白不过了:靠买设备过日子的时代,彻底要翻篇了。

国产替代不是瞎吹,关键零件早有“存货”

但熟悉中国芯片产业的人都清楚,这波管控早有预兆,国产替代的布局其实比很多人想的要早。

早在2019年西方开始卡EUV出口的脖子时,国家集成电路产业投资基金就砸了3000多亿进去,从实验室研发到产线测试的闭环链条全给打通了,目标很明确:先把成熟制程搞定,再啃先进技术的硬骨头。

就说上海微电子吧,作为国产光刻机的主力,2024年就把65纳米的DUV光刻机搞到商用了,2025年上半年已经能稳定出货,这设备用的是国产氟化氩激光源,波长控制在193纳米,中端芯片的需求基本都能满足。

更关键的是,光刻机的核心零部件早就有了“存货”,不是光靠一家企业单打独斗。

以前最头疼的镜头,一直得靠德国蔡司,现在国内团队开发出了多层反射涂层,光传输效率提上去了,国产化率直接干到70%以上,华辰装备的精密磨床帮了大忙,零件加工精度跟进口的差不了多少。

曝光系统里的激光器,也换成了国产货,不用再看国外供应商的脸色。

还有步进电机、掩膜版系统这些关键环节,北方华创中微公司这些企业早就拿出了能落地的产品——之前中微的5纳米刻蚀机都通过台积电验证了,北方华创的14纳米沉积设备也在中芯国际的产线里跑起来了,而且稳定得很。

就连ASML都不得不承认,中国的技术追赶速度超出预期。2025年有报道说,中国企业拆解了DUV设备后,居然能反过来找ASML求助调试,这看似尴尬的背后,其实说明本土已经能搞定大部分维修和维护,就差最后那层窗户纸没捅破。

更有意思的是,中芯国际早就练出了“笨办法”——用受限的DUV设备搞多重曝光,通过软件算法优化,硬生生把7纳米芯片造了出来,虽然成本比用EUV高些,但至少证明“没它也行”。

这些藏在水面下的积累,其实都为后来的加速突围埋下了伏笔。

按下加速键:从“能造”到“好用”的冲刺

荷兰这新规矩一出来,国内那几家做设备的厂商,会议室的灯就没怎么关过——既然外部供应的“水龙头”被拧紧了,自己的“蓄水池”就得加速蓄水。

上海微电子原本计划2025年底才让28纳米浸没式DUV进验证阶段,现在直接提前到下半年,曝光均匀性、产量稳定性都做了升级,缺陷率降到了行业平均水平以下,已经送样给中芯国际测试了。

还有新凯来,这家跟华为有关联的企业更猛,2025年半导体峰会上直接亮出了65纳米DUV,还放消息说EUV原型机已经在华为东莞工厂试产了——虽然用的是激光诱导放电等离子体技术,跟ASML的路线不一样,但好歹踏出了第一步。

这会儿产业链的协同效应彻底爆发了。以前设备厂商和芯片制造企业还得慢慢磨合,现在中芯国际干脆直接把国产DUV拉进自己的产线做“实战测试”,发现问题当场改,比以前送样测试的效率高了一倍不止。

华为的“塔山计划”也没闲着,联合了二十多家上下游企业,从EDA软件到封装测试全链条打通,就为了给国产光刻机铺路——毕竟设备造出来了,还得有能用、会用的生态才行。

国家大基金的钱也没乱投,精准砸向了曝光系统、光源技术这些“卡脖子中的卡脖子”环节,每家牵头企业都拿到了上亿的研发资金,研发周期直接压缩了三分之一。

ASML的反应反倒成了最好的注脚。一边抱怨管制影响业绩,一边悄悄在北京建维修中心,计划2025年运营,明着是维护旧设备,实则是怕彻底失去中国市场。

2024年上半年ASML对华营收暴涨129%,其实就是管制前中国企业抢订的“末班车”,可这波库存早晚会用完。

反观中国市场,2024年国产设备的市场占有率已经从2020年的16%冲到了28%,虽然离全面替代还有距离,但这增速已经说明问题了。

说到底,荷兰的新规与其说是“封锁”,不如说是给中国芯片产业踩了一脚“油门”。以前大家还会纠结“造不如买”的成本问题,现在没得选,反倒让整个行业拧成了一股绳。

ASML的CEO曾说中国技术会落后10到15年,但从65纳米商用、28纳米验证、EUV原型试产的节奏来看,这个差距正在被快速缩小。

这从来不是“造一台光刻机”那么简单,而是整个半导体产业从依赖外部到自主可控的蜕变——毕竟能在压力下活下来、走得远的,从来都是那些能自己造血的玩家。

等将来国产光刻机真正在产线里稳定运转的那天,再回头看这次新规,可能会发现,这事儿也就是中国芯片产业突围路上的一块垫脚石而已。

信息来源:

证券时报e公司——荷兰扩大DUV光刻机出口管制?ASML最新回应

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