新毅东申请光刻机FLS机构零平面标定方法专利，完成零平面标定_科技动态

新毅东申请光刻机FLS机构零平面标定方法专利，完成零平面标定

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2025-12-30 15:02:28

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国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司申请一项名为“光刻机设备中FLS机构零平面的标定方法及光刻设备”的专利，公开号CN121209217A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本申请提供光刻机设备中FLS机构零平面的标定方法及光刻设备，涉及光刻机技术领域。该方法包括：确定工件台在不同移动高度时CCD探测器采集到的光斑位置，并基于移动高度以及各移动高度对应的光斑位置，构建得到光斑位置与被测面高度之间的关系模型，再将物镜的光轴中心位置对应的目标光斑位置代入至上述构建得到的关系模型，计算得到最佳焦平面高度，即FLS机构的零平面，并利用FLS机构的初始高度及目标高度，计算得到FLS机构所需的调整高度，并基于调整高度，控制FLS机构沿垂直方向移动，以完成零平面标定。

天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息23条，此外企业还拥有行政许可3个。

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来源：市场资讯

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