政汉电子取得湿制程设备专利，有效地将蚀刻残留物清除
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2026-01-09 18:01:13
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国家知识产权局信息显示，政汉电子科技有限公司取得一项名为“湿制程设备”的专利，授权公告号CN223786442U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型公开一种湿制程设备，包括第一槽体、晶舟及喷流装置。第一槽体包括相对设置的二槽壁及槽底板。晶舟可活动地设置于第一槽体内并包括多个插槽，且多个插槽沿任一该二槽壁的一宽度方向彼此间隔设置。喷流装置包括至少一上喷流管及至少一下喷流管，上喷流管沿至少一该槽壁的宽度方向设置，并包括多个上喷流孔。下喷流管位于晶舟的下方并包括多个下喷流孔。多个上喷流孔及多个下喷流孔相对该晶舟以不同方向朝多个插槽喷出处理液，从而有效地将蚀刻残留物清除，提高蚀刻速率。
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来源：市场资讯
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