记忆科技申请过孔结构设计方法专利,大幅改善过孔阻抗连续性
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2026-03-05 14:05:25
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国家知识产权局信息显示,记忆科技(深圳)有限公司申请一项名为“过孔结构的设计方法及过孔结构、设计装置、计算机设备及介质”的专利,公开号CN121598532A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明公开了一种过孔结构的设计方法及过孔结构、设计装置、计算机设备及介质,方法包括:构建参数化差分过孔基础模型;将每个过孔的段数、各段过孔的孔径以及各段过孔的长度,在所述参数化差分过孔三维模型中设置为可调变量;基于三个所述可调变量的不同参数组合对所述参数化差分过孔基础模型进行参数扫描仿真,得到每个参数组合所对应的差分阻抗数值;将所述差分阻抗数值与预设的目标阻抗进行比较;将最接近所述目标阻抗的差分阻抗数值所对应的三个所述可调变量的参数组合作为最优设计参数用于过孔结构的设计。本发明打破了单一孔径的设计局限,并精准匹配了目标阻抗,大幅改善了过孔阻抗连续性,有效适配高厚度电路板的阻抗连续性需求。

天眼查资料显示,记忆科技(深圳)有限公司,成立于1997年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本8000万港元。通过天眼查大数据分析,记忆科技(深圳)有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目6次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息380条,此外企业还拥有行政许可12个。

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来源:市场资讯

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