近日，落户盐城盐南高新区的智芯达真空设备（江苏）有限公司， 再添重磅科创成果。企业自主研发的国产首套硅基显IZO低温低损伤磁控溅射设备，顺利完成整机调试、验收，正式交付下游硅基Micro OLED头部产线使用。

这也是继去年企业首台巨量转移侧边磁控溅射成膜机在盐南成功下线后，在高端真空装备领域取得的又一里程碑式突破，标志着我国AR/VR核心硅基显示镀膜装备彻底打破海外长期垄断，实现关键环节国产化自主可控。

硅基Micro OLED作为AR/VR微型显示、高端车载近眼显示设备的核心关键器件，对生产工艺要求极高。由于器件有机发光层热敏性极强，传统进口溅射设备作业温度高、高能粒子轰击强度大，极易损伤有机发光层，直接影响终端屏幕的发光效率、使用寿命与生产良率。本次智芯达下线的全新设备，依托自主核心专利技术，可将镀膜基底温度稳定控制在40至60摄氏度的低温区间，最大程度规避高能粒子对硅基晶圆有机膜层的冲击损伤。设备搭配专属对靶结构设计，膜层均匀性误差控制在±2%以内，厚度精度达到纳米级，整机核心工艺指标全面对标国际一线进口设备，在低温防护、量产产能、良率管控等多项关键性能上，实现对进口设备的全面超越。

据智芯达副总经理洪耀介绍，本次设备研发面临极高的时间与技术双重压力，下游客户要求四个月内完成整机交付，而海外同规格设备的常规交付周期普遍长达十个月以上。为如期交付高品质国产化装备，研发团队攻坚突破，针对性优化设备结构、定制专属工艺方案，同步完成全流程核心零部件国产化替代，高效攻克了交付周期紧、工艺标准高、全套国产化落地三大难题。该设备的成功投用，填补了国内硅基显示专用溅射装备的市场空白，为国内近眼显示产业链提供了高性价比、全国产化的工艺解决方案，有效降低企业设备采购、运维成本，持续加速国内AR/VR、车载硅基显示产业链自主可控进程。

深耕高端真空镀膜设备细分赛道，智芯达始终坚持技术迭代、持续拓宽产业应用边界。在成熟的小尺寸硅基IZO低温低损镀膜技术基础上，企业同步研发的大尺寸TCO低温低损伤镀膜设备，可有效解决大尺寸OLED显示依赖高成本蒸镀设备制作透明金属阴极的行业痛点。与此同时，企业全新研发的半导体芯片电磁屏蔽镀膜设备，能够以镀膜工艺替代传统厚重金属屏蔽罩，完美适配5G、6G通讯高密、高集成度场景的严苛屏蔽需求，目前已顺利通过两家海外终端企业及国内半导体头部客户的测试验证。

“企业深耕赛道的核心目标，就是逐一攻克高端真空镀膜设备领域长期被国外垄断的‘卡脖子’技术难题。”洪耀表示，公司第四款全新高端装备已进入研发收尾阶段，首台样机已完成组装测试。该设备聚焦半导体TGV高深宽比磁控溅射镀膜技术，可替代传统TSV封装互连工艺，未来将广泛应用于2.5D、3D先进芯片封装核心场景，进一步补齐国内先进封装设备短板。

目前，智芯达已构建起完全自主可控的知识产权体系，设备核心腔体、磁控阴极、真空传动系统、智能电控单元等关键部件全部实现本土自研自产，累计斩获国内外授权专利60余项。智芯达总经理吴哲镐表示，企业将持续深耕高端真空装备赛道，迭代优化成熟产品，持续加大核心技术研发投入，推动多款自研溅射设备规模化量产落地，以自主科创技术助力国内新型显示产业高质量发展。

此次国产首套硅基显示核心镀膜装备成功落地，是盐南高新区培育真空装备新质生产力、完善新型显示配套产业链的标志性成果。下一步，盐南高新区将持续聚焦战略性新兴产业赛道，从科创扶持、要素供给、载体配套等方面提供全链条保障，持续招引、培育优质科创主体，不断壮大以智芯达为核心的高端装备产业集群，以硬核科创突破持续激活区域新质生产力，助推全区新兴产业提质增效、集群发展。

通讯员 布梦茹 李苏卫

扬子晚报/紫牛新闻见习记者 周珉

校对 吉启雷