浙江驰拓科技取得一种磁屏蔽结构专利,大幅提高磁屏蔽效率
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2025-03-22 02:20:40
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金融界2025年3月21日消息,国家知识产权局信息显示,浙江驰拓科技有限公司取得一项名为“一种磁屏蔽结构”的专利,授权公告号 CN 222637295 U,申请日期为2024年6月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种磁屏蔽结构,应用于芯片封装领域。本实用新型在抗磁垫片四周设置了相互连接的四个倾斜的抗磁侧壁和与四个抗磁侧壁连接为一体的抗磁盖板,通过基板、抗磁垫片、四个倾斜的抗磁侧壁以及抗磁盖板形成密闭空间,对放置在内部的磁性芯片的静磁场进行屏蔽,由于采用了沿周向方向相互连接的四个抗磁侧壁,能够对磁性芯片各个方向的磁场进行屏蔽,大幅提高了磁屏蔽效率;而且采用倾斜侧壁也可以有效提高屏蔽效率,不仅可以大幅提高垂直屏蔽效果,还可以同时维持水平屏蔽效果。同时,由于磁性芯片在抗磁垫片的镂空区域采用倒装键合的方案和基板连接,解决了侧壁较多导致无法进行引线键合的问题。

天眼查资料显示,浙江驰拓科技有限公司,成立于2016年,位于杭州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本17714.088889万人民币,实缴资本12036.685556万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江驰拓科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目87次,财产线索方面有商标信息10条,专利信息408条,此外企业还拥有行政许可7个。

来源:金融界

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