光刻机分两种：前道光刻机造芯片，后道光刻机做封测。

大家平时说的“光刻机”通常指前道光刻机，因为后道光刻机技术门槛低，能生产的企业多，不像前道光刻机那么“卡脖子”。

目前全球能造前道光刻机的企业就四家：荷兰ASML、日本尼康、日本佳能、中国上海微电子（SMEE）。

这四家技术差距可不小——最牛的ASML，能生产EUV光刻机，台积电、三星、英特尔这些大厂造高端芯片全得靠它；其他三家，连EUV的边儿都摸不着。

先说ASML。它1984年从飞利浦分出来，干了四十多年，现在稳坐光刻机头把交椅。

当年尼康、佳能还是光刻机界“老大哥”时，ASML抓住了浸润式技术机会，直接反超，成了唯一能造EUV光刻机的厂商。现在全球高端芯片制造，EUV设备100%离不开ASML，说它“垄断”先进光刻机市场一点不夸张。

尼康成立于1917年，百年老牌了。上世纪70年代到90年代，它在光刻机领域可是领跑者，193nm的DUV光刻机技术比ASML还强。但后来没抓住浸润式DUV的机会，被ASML反超。现在尼康能造浸润式DUV光刻机，但技术得跟ASML合作，市场份额少得可怜，EUV更是搞不定。

佳能1937年成立，跟尼康同期，当年也是光刻机巨头。但同样错过了浸润式DUV技术，现在只能造普通DUV光刻机，浸润式和EUV都搞不定，被ASML甩开一大截。

上海微电子2002年成立，才23年历史，目前能造DUV光刻机，但还没攻克浸润式DUV技术，EUV更是遥远。不过，ASML从成立到垄断市场也才40年，上海微电子起步晚但潜力大，说不定哪天就追上来了。

说到底，全球光刻机产业就这么四家玩家，技术差距却像隔座山。ASML断层式领先，尼康、佳能、上海微电子还在爬坡。但中国厂商起步晚不代表没机会——当年LCD产业不就是从落后到反超的吗？光刻机这事儿，说不定也能复制这个剧本呢。